1.多层薄膜材料设计
摘要 为了满足大气辐射系统中的光学元件的使用要求,即在可见光及近红外波段范围 具有高透过率,根据双有效界面法设计原理配合TFC膜系软件设计膜系,采用离子辅 助沉积,电子束真空镀膜的方法,通过对真空度、基底温度、Ti口2膜料蒸发速率等工 艺参数的调整和膜层厚度的监控方法的改进,采用A12O。
峋凡,TIOZ,5102四种镀膜 材料,在K,基底上制备了400一1100nm宽带增透膜。并用分光光度计测量了薄膜的透 过率,得到透过率光谱曲线。
所镀膜层在垂直入射时,400一1100纳米波段平均反射率 小于1.5%。最后对制备的增透膜进行了各种环境测试,环境测试结果显示,膜层的各项 指标都达到了设计要求。
关键词:光学薄膜;大气辐射系统;宽带增透膜;离子辅助; ABSTRACT ' radiationsystems,namely,一infrared band, dePositionsystems. interfaeetheory.,base reservoirtemPerature,,we ,加烤凡,TIO:,510:.And ,gotthesPectrum eurvesoftheeoating.,.5% through400nm一1100nmwavelength.Inaddition, environmentaltests,. 价ywords:oPtiealthinfilm;:broadbandARcoating; (IAD); 目录 摘要 ABSTRACT 目录 第一章绪论。
……,……1 1.1薄膜的发展。
……,。
.……,。
..•。
••。
•。..••••。
..……1 1.2宽带增透膜的发展及应用.‘、‘一。
一。
……1 1.3论文研究的内容。
.•••••••••••••••••••••••••••••••••••••••••••……2 第二章薄膜设计理论。
.……‘…‘二‘一,.”。”。
.……4 2.1光学薄膜的特性计算。
..……4 2.2双有效界面法。
••••••..••.••••••••••••••••••••••“••••••••••一8 2.3介质多层膜的弱吸收计算。
.……,,。
……。
..……10 第三章增透膜设计理论。
.……13 3.1宽带增透膜的使用要求,。
……,。
..……13 3.2薄膜材料的选择。
•••••••••••••••••••••••••••••••••……13 3.2.1选择薄膜材料的依据。
..……13 3.2.2选择薄膜材料。
.……15 3.3增透膜设计理论基础。
……18 3.3.1单层膜的减反射原理及计算..……,。
..。
2.多层薄膜材料设计
摘要为了满足大气辐射系统中的光学元件的使用要求,即在可见光及近红外波段范围具有高透过率,根据双有效界面法设计原理配合TFC膜系软件设计膜系,采用离子辅助沉积,电子束真空镀膜的方法,通过对真空度、基底温度、Ti口2膜料蒸发速率等工艺参数的调整和膜层厚度的监控方法的改进,采用A12O。
峋凡,TIOZ,5102四种镀膜材料,在K,基底上制备了400一1100nm宽带增透膜。并用分光光度计测量了薄膜的透过率,得到透过率光谱曲线。
所镀膜层在垂直入射时,400一1100纳米波段平均反射率小于1.5%。最后对制备的增透膜进行了各种环境测试,环境测试结果显示,膜层的各项指标都达到了设计要求。
关键词:光学薄膜;大气辐射系统;宽带增透膜;离子辅助;',namely,一infraredband,..,,,,加烤凡,TIO:,510:.,.,.5%through400nm一1100nmwavelength.Inaddition,,.价ywords:oPtiealthinfilm;:broadbandARcoating;(IAD);目录摘要ABSTRACT目录第一章绪论。
……,……11.1薄膜的发展。
……,。
.……,。
..•。
••。
•。..••••。
..……11.2宽带增透膜的发展及应用.‘、‘一。
一。
……11.3论文研究的内容。
.•••••••••••••••••••••••••••••••••••••••••••……2第二章薄膜设计理论。
.……‘…‘二‘一,.”。”。
.……42.1光学薄膜的特性计算。
..……42.2双有效界面法。
••••••..••.••••••••••••••••••••••“••••••••••一82.3介质多层膜的弱吸收计算。
.……,,。
……。
..……10第三章增透膜设计理论。
.……133.1宽带增透膜的使用要求,。
……,。
..……133.2薄膜材料的选择。
•••••••••••••••••••••••••••••••••……133.2.1选择薄膜材料的依据。
..……133.2.2选择薄膜材料。
.……153.3增透膜设计理论基础。
……183.3.1单层膜的减反射原理及计算..……,。
……。
……183.3.2双层减反射膜的原理及计算。
.……,..…203.3.3三层减反射膜的原理及计算。
.”。
.……213.3.4多层膜膜系的优化方法。
.……223.4课题设计方案。
•。•••••••。
•。•••••。
……24第四章制备工艺。
..••.••••••••••••••••••••••••……264.1薄膜的制备装置。
..……,。
……264.2主要工艺因素分析。
..……,。
.……314.3成膜过程。
..……,。
……,。
.……324.4镀膜材料折射率的确定。
.……354.5制备工艺过程。
•••••••••••••••••••••••••••••••••••……37第五章误差及测试结果分析。
……395.1实验结果。
.……,。
……,••••••。
..……395.2误差分析。
.……,。
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